設備介紹
中頻磁控真空鍍膜機主要用于在基片上鍍制金屬膜、半導體膜、絕緣膜、硬質(zhì)膜、耐熱膜、耐腐蝕膜、超導膜、磁性膜、光學(xué)膜等各種特殊性能的薄膜。ZY-1212鐘表裝飾鍍膜機結合了離子鍍膜與磁控濺射的各種優(yōu)勢，所鍍膜層光滑、上色均勻、亮度好、附著(zhù)力強，非常適合在表盤(pán)、表帶等產(chǎn)品表面鍍制各種顏色和厚度的高質(zhì)量的耐磨裝飾膜層。
設備特點(diǎn)
膜厚可控性和重復性好。能夠輕松鍍制預定厚度的薄膜，并且可以在較大的表面上獲得厚度均勻的膜層。
薄膜與基片的附著(zhù)力強。
可制備特殊材料的薄膜?？梢允褂貌煌牟牧贤瑫r(shí)濺射制備混合膜、化合膜。
電氣控制系統可手動(dòng)/半自動(dòng)、PLC
設備參數
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爐體尺寸 |
φ1200×H1200 |
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有效空間 |
φ850×H900 |
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極限壓力 |
5.0×10-4Pa |
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抽氣時(shí)間 |
大氣到4X10-3 <20分鐘 |
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真空系統 |
分子泵、羅茨泵、旋片泵 |
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電源類(lèi)型 |
直流逆變電源、脈沖偏壓電源、中頻磁控電源、直流磁控電源 |
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工件轉架結構 |
下轉架結構 |
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應用技術(shù) |
ZP+ARC PMB +LZY（選配） |
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標準涂層效果 |
IP黑，玫瑰金，IP金，寶石藍，香檳金，炫銀，咖啡色，七彩，槍黑色，鋯金，玫瑰紅等 |
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生產(chǎn)周期 |
0.5-2小時(shí)/爐 |
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外圍尺寸 |
L 3300×W2900×H2500 MM |
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實(shí)際功率 |
90KW |
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配套條件 |
循環(huán)水壓力：2-3KG/CM3 水量：10T/H
壓縮空氣：4-6 KG/CM3
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工作氣體 |
Ar、N2、O2、C2H2等 |
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控制方式 |
手動(dòng)+半自動(dòng)+全自動(dòng)一體化/觸摸屏+PLC（自己開(kāi)發(fā)的鍍膜專(zhuān)用軟件） |
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